提供卓越性能
Microgardn Plus 过滤器采用专利的超高分子量聚乙烯（UPE）膜，具有目前所有膜中最高的截留效率（>99.9%），适用于超纯溶剂和光阻化学品过滤。该膜具备出色的截留能力，可满足当今尖端技术日益增长的需求，现可提供3 nm的截留等级。Microgard Plus 过滤器具有低表面活性剂结合性、优异的润湿性和更出色的下游清洁度。
低成本运营
Microgardn Plus 过滤器无需使用溶剂型化学药剂进行预润湿，从而降低了运行成本，使工艺更加稳定可靠。
卓越的下游清洁度
Microgardn Plus 滤芯在制造过程中经过彻底清洗，完全由高密度和超高分子量聚乙烯制成。因此，与聚丙烯、聚砜、聚醚砜或尼龙等结构技术相比，Microgardn Plus 过滤器具有更好的初始清洁度和更低的污染物可提取物含量。
3纳米和5纳米非对称UPE
10纳米至0.2微米，具备特殊清洗功能*
优异的润湿性
大过滤面积
高截留效率（>99.9%）
全聚乙烯结构
优势
采用行业最先进的3纳米截留技术。非对称膜结构可提高流速、降低压降，减少缺陷并提升处理通量。
更复杂的滤芯需要更洁净的材料；Entegris独有的清洗技术可确保有机物和金属提取物含量极低，避免滤芯成为工艺污染源。无需预润湿，减少化学药剂使用，同时缩短滤芯更换时的系统停机时间。
提供更稳定的过滤效果。
在紧凑设计中实现最大流量。
在化学品输送系统及大宗化学品生产中，颗粒物浓度更低。
通过卓越的下游清洁度，有效减少颗粒污染。滤芯全由聚乙烯制成，可降低其他材料制成的滤芯可能产生的金属/离子污染。
点用过滤器
IMPACT® 点用光化学过滤器—
Entegris 提供适用于 28 纳米以下光刻节点的顶级超洁净点对点 Impact 8G 光化学滤器，以及适用于 28 至 250 纳米光刻节点的坚固型 Impact 2 V2 滤器。Impact 滤器针对多种光刻胶和溶剂进行了优化，包括 ArF、KrF、BARC、面漆及预增厚液，可实现卓越的流速性能并减少微气泡产生。组成物。
• Impact 8G 过滤器采用 Oktolex™ 膜技术，可精准去除污染物
• 加强型超洁净（UC）过滤清洁技术，实现快速启动
• 低滞留容积，减少化学废料
• Impact 2 V2 分配管设计，可快速连接至兼容的灌装系统或独立分配管
OPTIMIZER® 光化学过滤器—
Entegris 提供多种专为有机溶剂和强腐蚀性溶剂应用，以及去离子水和水性显影液设计的优化型点对点分配与点对工具过滤解决方案。这些先进的超洁净过滤器在20至250纳米光刻节点范围内具有卓越的污染控制能力。
• 提供AT、AUC和ST三种设计，以满足您的化学成分、保留率及运行需求
• 配备增强型清洗技术，确保更少的颗粒物，并降低有机物和可溶性金属污染物
• 提供长型滤芯，具备更强的流量性能，可缩短过滤器启动时间
批量净化器与过滤器
PURASOL™ SN/SP 溶剂净化器—
我们提供超洁净的Purasol溶剂净化器，可有效去除多种超纯、极性及非极性溶剂中的溶解性和胶体金属污染物，包括难以去除的酮类物质如环己酮。凭借独特定制的膜技术，这些多功能净化器可显著减少关键工艺流中的缺陷。
• UPE净化介质确保卓越的清洁度
• 与大多数有机光化学溶剂具有广泛的化学兼容性
• 可实现单个或低于ppt级的污染物去除，适用于各类技术节点
MICROGARD™ 过滤器—
提供清洁、基于溶剂的过滤系统，适用于大批量光化学制造和溶剂型应用，具备高流速性能和优异的污染物截留能力。
Microgard过滤器系列可为10至250纳米的光刻节点提供高通量过滤。
• 提供UC、Plus/UPE和LE尼龙设计，满足您的批量及溶剂型光化学过滤需求
• 先进的清洗技术进一步减少颗粒释放以及金属和有机提取物
• UPE膜具有低表面活性剂结合性和极佳的润湿性
• 先进的非筛分尼龙膜技术可提升污染物去除效率效率
湿法刻蚀与清洗（WEC）
在半导体工厂中，湿法刻蚀和清洗工艺比任何其他工具工艺更频繁地接触晶圆。这些至关重要的工艺用于修改和清洁晶圆表面，以满足高效工厂对良率和可靠性的严苛要求。该工艺使用浓度高、温度高的强酸/强碱及溶剂等最剧烈的化学试剂。因此，必须严格控制WEC工艺所用材料以及重复性与一致性参数。我们提供适用于这些极端条件下的过滤解决方案。主要产品包括：
QUICKCHANGE® NX 系列滤芯—
适用于28纳米及以上技术节点的水性、脱气以及强酸强碱化学环境的过滤解决方案。Clean QuickChange NX系列滤芯可实现高温下高流量、高截留性能的过滤。
• 采用不润湿PTFE技术，防止在脱气和水性化学环境中导致滤芯失效
• 提供超洁净选项，最大限度减少设备停机时间
• 可选配超纯去离子水预润湿，实现快速设备启动
GUARDIAN™ ECD滤芯—
适用于稀酸和碱性化学环境的超洁净过滤解决方案，涵盖所有技术节点。清洁型Guardian ECD滤器可实现低温过滤，具备可靠的流量和污染物截留性能。
• 表面改性的介质，适用于广泛的pH应用范围
• 超洁净技术可显著降低金属、氯化物及颗粒物含量，缩短启动时间
• 水溶性膜可省去预润湿步骤，提升启动效率，并减少设备停机时间
湿蚀刻与清洗（WEC）（续）
ETCHGARD® HP/HPX 过滤器—
适用于≥10纳米工艺节点的高频（HF）和BOE回流槽的高性能过滤器。高效大流量膜可可靠地截留污染物，提升槽液质量，并实现高频率的槽液循环。
• 表面改性膜
与常规电镀化学试剂无相互作用
• 水性介质无需预润湿和冲洗，安装更快速
• 大表面积滤膜卡匣
在回流应用中提供高流量和快速颗粒去除
PROTEGO® PLUS 纯化器—
满足严苛客户要求的一体化净化过滤器，适用于最严苛的28纳米以下技术节点中的颗粒控制。Protego Plus IPA净化器专为在IPA清洗应用中捕获痕量金属离子而设计，而Protego Plus DI水净化器则可在单次通过或循环式DI水应用中实现对多种金属阳离子污染物的高效去除。
• 高离子交换（IEX）能力，可有效捕获痕量金属离子，将颗粒排放降至极低水平
• 高金属去除能力，延长了净化器/过滤器的使用寿命，并减少设备停机时间
• 超级洁净产品设计，支持在低温和高温条件下快速启动、高可靠性运行并实现高产量
化学机械抛光
随着晶圆设计的几何形状和线宽变得越来越复杂，化学机械抛光（CMP）在半导体制造环境中持续发展并日益重要。为支持这些技术进步，我们开发了一套完整的过滤解决方案，可兼容多种浆料和研磨材料。该过滤产品系列包括批量/碳化硅、工具端点和喷洒点过滤。这为浆料输送路径上的污染物控制提供了更多机会，在晶圆抛光前清除导致缺陷的物质。
PLANARGARD® NMB 粗浆过滤器—
我们提供一流的Planargard NMB过滤器，适用于45纳米以下技术节点的散装浆料过滤。Planargard NMB过滤器具有超高的颗粒承载能力，适用于大规模化学机械抛光（CMP）工艺，并能有效去除硬质颗粒并保留凝胶。
• 纳米熔喷技术
更高效地去除散装浆料中的团聚物和凝胶
• 低剪切力过滤
提升运行效率
SOLARIS® NMB 工具点浆料过滤器—
针对45纳米以下技术节点的点对点浆料过滤，我们提供业界领先的Solaris NMB过滤器，可有效保持低大颗粒数（LPC）和稳定的粒径分布。该过滤器专为降低各类应用中的关键LPC而设计，尤其针对胶体二氧化硅、氧化铈及超细氧化铝浆料进行了优化。
• 低滞留容积设计，空间利用率高，减少“种子”颗粒的堵塞，避免浆料干涸，最大限度降低废料产生
• 在不改变粒径分布的情况下显著降低LPC
• 纳米纤维与多层连续熔喷（CMB）介质构成更优的流动路径，实现更高保留率
化学机械平坦化（续）
PLANARCAP® NMB 点供浆料过滤器—
Planarcap NMB点对点分配浆料过滤器在45纳米以下技术节点中具有超高的颗粒承载能力。这个
先进的纳米纤维连续熔喷（NMB）滤材技术，可实现更高效的硬质颗粒去除和凝胶保留性能。
• 纳米纤维连续熔喷技术能更有效地去除团聚物和凝胶，减少微小划痕，并延长滤芯使用寿命。
• 通过在浆料接触晶圆前的最终投送点进行战略性安装，显著提升运行效率。
PLANARCORE® PVA 刷子—
Planarcore PVA 刷具采用模压聚丙烯（PP）一次性刷芯，专为后CMP晶圆清洗应用而设计，可实现卓越的性能和晶圆间均匀性。独特的“刷芯一体成型”技术确保PVA（聚乙烯醇）与PP刷芯之间具有绝对附着力，在使用过程中不会出现同心度偏差。
• 一体成型结构可实现快速、一致的安装，消除对准和间隙问题，减少系统停机时间，提高生产吞吐量。
• 高纯度PVA显著缩短了刷具的磨合时间和冲洗时间，降低可提取物含量，并减少晶圆上的颗粒数。
• 精密模压刷体设计均衡了刷子内部的流体流动，有效避免了性能不可重复和不可预测的风险。
大宗化学品制造与纯水处理
大宗化学品
化学品制造商在研发和生产过程中广泛采用过滤解决方案，以去除污染物，并模拟客户所使用的工艺流程。在产品包装前，通过在生产流程中加入过滤器和净化装置来去除颗粒、凝胶及其他杂质，可提升化学品的性能并降低缺陷率。
TRINZIK™ 过滤器—
我们的Trinzik HCE、HCO和HCM系列过滤器，适用于45纳米以下技术节点的超纯电子级溶剂以及稀释酸碱液的亲水性和疏水性过滤，广泛应用于大规模化学加工领域。与传统滤材相比，这些先进的膜结构具有显著更高的比表面积，可有效保留污染物并提高流速。
• 高孔隙率的亲水性和疏水性PTFE膜，实现高流速性能，并降低运行成本
• 小孔径膜设计可高效去除颗粒物，提升产品收率
• 采用低可提取物材料，确保过滤过程更加洁净
TORRENTO® 过滤器—
采用最新的膜技术和洁净技术，我们提供Torrento X系列传统径向过滤器，以满足强酸、强碱及清洗应用中最关键的需求。对于含有高浓度溶剂的溶剂和BEOL条带化学工艺，我们提供Torrento S系列过滤器。Torrento过滤器可显著提升22纳米以下器件节点中的流速性能、过滤清洁度以及污染控制能力。
• Torrento X过滤器采用领先的FlowPlane™线性过滤技术，可在22纳米以下节点实现可靠的颗粒保护。
• 在溶剂和湿法应用中提供终极的颗粒与污染控制。
• 提供专用有机清洗选项，可最大限度缩短过滤器启动时间。
• 先进的过滤器结构在保持高保留率的同时，仍能维持优异的流速性能。
大宗化学品制造与去离子水（续）
去离子水
去离子水（DI水）是半导体制造中的关键组成部分。它不仅用于关键稀释化学溶液的混合，还应用于晶圆干燥工艺中。在干燥过程中，当水滴形成时，必须清除由此产生的水渍。在这些应用中，清洁的水对于降低运营成本、提高工艺效率至关重要。
PROTEGO PLUS 水净化器—
高效一体化净化过滤器，可在关键的去离子水处理应用中提供终极保护，有效防止金属离子污染。超洁净型Protego Plus去离子水净化器在常温及高达80°C（176°F）的高温条件下均能实现快速启动和高产率。
• 高离子交换（IEX）能力，可减少晶圆上的金属提取物和颗粒物
• 可靠的金属离子去除性能，显著降低系统停机时间
• 先进的清洁技术有效减少阳离子金属、氯化物、氮杂环化合物以及颗粒物释放
TRINZIK UPW 超纯水过滤器—
专为化工制造中超纯水和去离子水的高性能亲水过滤而设计，Trinzik UPW 过滤器可有效控制给水、精炼回路、树脂捕集器及一般工艺设备用水中的污染物。
• 高孔隙率亲水聚四氟乙烯（PTFE）膜，实现高流量性能并降低运行成本
• 小孔径膜结构，提供更高效的颗粒去除能力，并提升系统可靠性
• 采用聚丙烯材料制成，提取物含量较低，确保过滤操作更加洁净
化学防护外壳
过滤器外壳的目的和价值不仅限于外观。过滤器外壳是一种容器，能够提供多种性能、可靠性和操作人员安全方面的优势。聚合物外壳或带有聚四氟乙烯（PTFE）内衬的外壳通常用于洁净度要求较高的应用场合，以及对渗入工艺材料中的金属较为敏感的应用中。
CHEMLOCK® 保护壳—
我们提供聚丙烯（PP）和PFA Chemlock外壳，可用于多种滤芯过滤器和净化器，适用于大宗化学品及微电子级化学品应用。这个
节省空间的外壳设计，可轻松实现滤芯更换，并减少接触化学物质的风险。全PFA选项在高温环境下具有广泛的化学兼容性。
• 紧凑的设计使滤芯更换几乎无需手动操作。
• 极小间隙的滤芯/碗体结构相比传统外壳安装，至少节省8英寸的垂直空间。
• 配备极其坚固、清洁且行业领先的PrimeLock®连接器，显著提升系统运行的可靠性和安全性。
为何选择Entegris？
随着人工智能、智能汽车、物联网和增强现实等重大趋势不断发展，以满足日益增长的速度、规模和可靠性需求，这些技术正对集成电路（IC）制造商提出更高要求，推动其提升处理器性能效率和内存容量。在设备制造商致力于以可接受的效率和良率生产出性能更优、结构更复杂且集成度更高的芯片时，他们在工艺控制和经济性方面面临巨大挑战。
凭借我们在微污染控制、先进材料处理、特种化学品以及工程材料领域的广泛产品组合，我们能够独特地帮助客户应对这些挑战，并以更低的成本满足全球消费者和企业日益增长的数据需求。持续投入的技术研发、稳健的制造能力以及完善的供应链体系，使我们成为值得信赖的可靠合作伙伴。我们的全球基础设施、技术组合和运营卓越水平，均超越了竞争对手。通过投资于更先进、更纯净的材料，我们能够提供最洁净、最可靠的聚合物解决方案。保障整体流程的质量与效率
PART NUMBERS
Microgard™ Plus/Plus LE/LE Nylon Filter Part Numbers
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CWAG01PLTK |
CWAG01PP1K |
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CWAG02PLE |
CWAG02PLT |
CWAG02PLTK |
CWAG02SCT |
| CWAG72PLT |
CWAT01MLT |
CWAT02MLT |
CWAT51ML0 |
CWAT52MLT |
| CWAV01PLE |
CWAV01PLEK |
CWAV01PLT |
CWAV01PLTK |
CWAV02PL0 |
| CWAV02PLT |
CWAV02PLTK |
CWAV02SCT |
CWAV03PLT |
CWAV52PLT |
| CWAV72PLT |
CWAV73PLT |
CWAX01PLT |
CWAX01PLTK |
CWAX02PLT |
| CWAX02PLTK |
CWAX03PLT |
CWAX51PLT |
CWAX52PLT |
CWAX71PLT |
| CWAX72PLT |
CWAY01PLE |
CWAY01PLT |
CWAY01PLTD |
CWAY01PLTK |
| CWAY02PLE |
CWAY02PLT |
CWAY03PLT |
CWAY73PLT |
CWAZ01PLE |
| CWAZ01PLT |
CWAZ01PLTK |
CWAZ01SCT |
CWAZ02PL0 |
CWAZ02PLE |
| CWAZ02PLT |
CWAZ02PLTK |
CWAZ02SCT |
CWAZ03PLT |
CWAZ51PLE |
| CWAZ51PLT |
CWAZ52PL0 |
CWAZ52PLE |
CWAZ72PLT |
CWAZ72PS0 |
| CWNT52PST |
CWNX52PST |
CWSF01MST |
CWSF02MST |
CWSF0SPS1 |
| CWSF52MS0 |
CWSF52MST |
CWSK01MST |
CWSK02MST |
CWSK51MS0 |
| CWSK52MS0 |
CWST01MST |
CWST01XST |
CWST02MST |
CWST03MST |
| CWUG52PST |